新墨西哥州立大學控告 Intel 侵犯縮小晶片尺寸專利

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晶片大廠 Intel 遭到新墨西哥州立大學授權部門 (STC.UNM) 控告侵犯該校在縮小晶片尺寸的專利技術。

STC.UNM 週一向阿布奎基市地方法院提出控告。新墨州大學控告的專利涵蓋 Intel 用於 32 奈米處理器製程中的雙圖樣微影技術 (double patterning lithography，DPL) 。新墨州大學 2000 年取得專利。

Intel 對此事拒絕評論。該校要求法庭判決 Intel 侵權，並支付賠償金。

STC.UNM 六月也向美國國際交易委員會控告台積電和三星侵權。最後雙方都達成協議，撤消控訴。本專利的授權者還包括 Hynix 半導體及東芝。

STC.UNM 總裁暨 CEO Lisa Kuuttila 指出，該校在提出控告前已和 Intel 取得聯繫。「雖然我們不願上法庭，但我們的義務就是要保護我們投資人和大學的智慧財產，因此我們別無選擇。」Kuuttila 在聲明稿中指出。

新墨大學的技術讓半導體業者可以製造更小的晶片。例如晶片內的電晶體縮小，就可以在同一塊矽晶片上放更多元件，可以提高效能而更省電。

雙圖樣微影技術 (double patterning lithography，DPL) 是由該校高等技術材質中心的研究人員 Steven R. J. Brueck 等。這項技術專利號碼是 6,042,998 。